मध्यम फॉस्फोरस इलेक्ट्रोलेस निकल प्लेटिंग रसायन प्रक्रिया स्थिर उज्ज्वल

मध्यम फॉस्फोरस इलेक्ट्रोलेस निकेल प्रक्रिया; एफएफआई-7880 एक स्थिर, तेज, उज्ज्वल इलेक्ट्रोलेस निकेल प्रक्रिया है

उत्पाद का वर्णन

एफएफआई-7880 एक स्थिर, तेज, उज्ज्वल इलेक्ट्रोलेस निकल प्रक्रिया है। इस प्रक्रिया में कई फायदे हैं जैसे उच्च तापमान स्थिरता, मजबूत प्रदूषण विरोधी क्षमता,कम भार और कम परिचालन लागत के तहत अच्छा कवरेज. एफएफआई-7880प्लेट तेजी से और जमा दर स्थिर है, सामान्य परिचालन परिस्थितियों में जमा दर 15 ~ 20μm / h पर स्थिर नियंत्रित किया जा सकता है,फॉस्फोरस सामग्री को 6-8% पर नियंत्रित किया जाता हैइस प्रक्रिया से निकेल की एक घनी परत उत्पन्न होती है, जो FFI-7890 रासायनिक सोने के साथ संयुक्त होती है, बंधन शक्ति और वेल्डेबिलिटी उत्कृष्ट होती है।

1 प्रक्रिया की विशेषताएं

उच्च स्नान स्थिरता, लंबा जीवन

आसान सक्रियण, जमाव गति, जमाव दर स्थिरता;

कम भार के तहत अच्छा कवरेज

उच्च कठोरता, अच्छा घर्षण प्रतिरोध

चिकनी और चमकदार, अच्छी वेल्डेबिलिटी के साथ, सूखी और बाधा परत पर हमला नहीं करते हैं, प्रभावी रूप से काले पैड और अन्य गुणवत्ता समस्याओं को समाप्त कर सकते हैं।

2 समाधान की संरचना और प्रक्रिया पैरामीटर

मेकअप के तरीके और प्रक्रियाएं

मेकअप की एकाग्रता

FFI-7880A 50 ¢ 60 मिलीलीटर/लीटर

FFI-7880B 150-180 मिलीलीटर/लीटर

डीआयनयुक्त जल शेष मात्रा

परिचालन की शर्तें

नया समाधान सक्रिय उपचार होना चाहिए