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FF-Cu85 Electroless Copper Plating Process

FF-Cu85 इलेक्ट्रोलेस कॉपर प्लेटिंग प्रक्रिया

  • प्रमुखता देना

    एसिड जिंक चढ़ाना रसायन

    ,

    जिंक चढ़ाना ब्राइटनर

  • प्रकार
    कॉपर चढ़ाना
  • वस्तु
    रासायनिक सहायक एजेंट
  • उपयोग
    इलेक्ट्रोलेस तांबा चढ़ाना
  • उत्पत्ति के प्लेस
    चीन
  • ब्रांड नाम
    FENGFAN
  • मॉडल संख्या
    टीआर-124, टीआर-125, टीआर-138
  • न्यूनतम आदेश मात्रा
    बातचीत योग्य
  • मूल्य
    बातचीत योग्य
  • पैकेजिंग विवरण
    मानक निर्यात पैकेजिंग
  • प्रसव के समय
    15-25 कार्य दिवस
  • भुगतान शर्तें
    एल/सी, डी/ए, डी/पी, टी/टी, वेस्टर्न यूनियन,
  • आपूर्ति की क्षमता
    200000pcs/दिन

FF-Cu85 इलेक्ट्रोलेस कॉपर प्लेटिंग प्रक्रिया

FF-Cu85 इलेक्ट्रोलेस कॉपर प्लेटिंग प्रक्रिया


विवरण

FF-Cu85 प्रक्रिया एक मध्यम तापमान, उच्च गति इलेक्ट्रोलेस तांबा जमा प्रणाली विशेष रूप से छेद के माध्यम से धातुकरण अनुप्रयोगों के लिए इंजीनियर है।यह उच्च शुद्धता के साथ एक तांबा कोटिंग जमा करता है, चिकनी सतह, समान घनत्व, और सुसंगत वितरण। जब नीचे विस्तृत प्रक्रिया के अनुसार संचालित और दर पैनलों का उपयोग करके मापा जाता है, FF-Cu85 एक कोटिंग मोटाई जमा करता है 1.75 से 2.25 μm (70 से 90 μin) 30 मिनट के भीतर। FF-Cu85 स्नान असाधारण स्थिरता प्रदर्शित करता है और उचित रखरखाव के साथ, लंबे समय तक निरंतर और विश्वसनीय रूप से काम करता है।
कृपया इस उत्पाद का उपयोग करने से पहले पूर्ण तकनीकी डेटा शीट पढ़ें।

प्रक्रिया घटक

FF-Cu85A, FF-Cu85B, FF-Cu85C, FF-Cu85D, FF-Cu85G, 37% फॉर्मल्डेहाइड

ताजा स्नान मेकअप नुस्खा

घटक

वॉल्यूमेट्रिक प्रतिशत

प्रति लीटर मात्रा

डीआई जल या आसुत जल

820.3%

823 मिलीलीटर

FF-Cu85B

10०%

100 मिलीलीटर

FF-Cu85A

4०%

40 मिलीलीटर

FF-Cu85D

3०%

30 मिलीलीटर

FF-Cu85G

0.2%

2 मिलीलीटर

37% फॉर्मल्डेहाइड *

0.5 प्रतिशत

5 मिलीलीटर